Vědci z University of Alabama představili novou metodu ukládání tenkých vrstev atomů jako
"ALD je metoda aplikace trojrozměrné tenké vrstvy."filmy, které hrají důležitou roli při výrobě mikroelektroniky, zejména prvků, jako jsou centrální procesorové jednotky, paměť a pevné disky, “poznamenávají vědci. Každý cyklus ALD aplikuje vrstvu hlubokou několik atomů.
ALD procesy obvykle používají zahřívanémolekuly v plynné fázi, které se odpařují z pevné nebo kapalné formy - podobně jako zvlhčovače místnosti, které využívají teplo k odpařování vody. V tomto procesu jsou však některé chemické prvky nestabilní a mohou se rozložit dříve, než začne tlak par.
Vědci vytvářejí nejtišší polovodičové kvantové bity
"Ultrazvuková atomizace vyvinutá naším."Výzkumná skupina vám umožňuje získat prekurzory s nízkým tlakem par, protože k odpařování došlo v důsledku ultrazvukových vibrací modulu. Stejně jako u zvlhčovače pro domácnost vytváří ultrazvukové rozprašování mlhu nasycené páry a mikrokapiček. Kapky o velikosti mikronů se nepřetržitě odpařují a nanášejí na povrch materiálu, “uvedli vědci.
Tento proces používá ultrazvuktransformátor umístěný v kapalném chemickém prekurzoru. Po spuštění zařízení vibruje rychlostí několik setkrát za sekundu a vytváří mlhu materiálu. Malé kapičky kapaliny v mlze se rychle odpařují v potrubí plynu pod vakuem a jemným tepelným zpracováním a zanechávají po sobě rovnoměrnou vrstvu naneseného materiálu.
Přečtěte si také
Roční mise v Arktidě skončila a data jsou zklamáním. Co čeká lidstvo?
Vědci zjistili, proč jsou děti nejnebezpečnějšími nositeli COVID-19
Hnízdo asijských zabijáckých sršňů nalezeno a zničeno v USA