Eine neue Art des Aufbringens dünner Atomschichten ist erschienen

Forscher der University of Alabama haben eine neue Methode zur Abscheidung dünner Atomschichten vorgestellt

Beschichtung auf dem Material bei einer Temperatur nahe der Raumtemperatur. Die Wissenschaftler nutzten die Ultraschallzerstäubungstechnologie, um Chemikalien zu verdampfen, die bei der Atomlagenabscheidung (ALD) verwendet werden.

„ALD ist eine Methode zum Auftragen von dreidimensionalem DünnFilme, die eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Mikroelektronik spielen, insbesondere Elemente wie Zentraleinheiten, Speicher und Festplatten “, stellen die Wissenschaftler fest. Jeder ALD-Zyklus legt eine mehrere Atome tiefe Schicht auf.

ALD-Prozesse werden typischerweise beheizt verwendetMoleküle in der Gasphase, die aus fester oder flüssiger Form verdampfen - ähnlich wie Luftbefeuchter in Innenräumen, die Wärme zum Verdampfen von Wasser verwenden. Bei diesem Verfahren sind jedoch einige chemische Elemente instabil und können sich zersetzen, bevor der Dampfdruck beginnt.

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„Die von uns entwickelte UltraschallzerstäubungForschungsgruppe, ermöglicht es Ihnen, Vorläufer mit niedrigem Dampfdruck zu erhalten, da Verdunstung aufgrund der Ultraschallschwingung des Moduls aufgetreten ist. Wie bei einem Haushaltsbefeuchter erzeugt die Ultraschallzerstäubung einen Nebel aus gesättigtem Dampf und Mikrotröpfchen. Tröpfchen mit einer Größe von Mikrometern werden kontinuierlich verdampft und auf die Oberfläche des Materials aufgebracht “, stellten die Forscher fest.

Dieser Prozess verwendet Ultraschallein Transformator, der in einem flüssigen chemischen Vorläufer angeordnet ist. Nach dem Start vibriert das Gerät mit einer Geschwindigkeit von mehreren hundert Mal pro Sekunde und erzeugt einen Materialnebel. Kleine Flüssigkeitströpfchen im Nebel verdampfen im Gasverteiler unter Vakuum und sanfter Wärmebehandlung schnell und hinterlassen eine gleichmäßige Schicht aufgetragenen Materials.

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