Istraživači sa Sveučilišta u Alabami predstavili su novu metodu taloženja tankih slojeva atoma kao
„ALD je metoda nanošenja trodimenzionalne tankefilmova, koja igra važnu ulogu u proizvodnji mikroelektronike, posebno takvih elemenata kao što su središnje procesne jedinice, memorija i tvrdi diskovi “, napominju znanstvenici. Svaki ciklus ALD nanosi sloj dubok nekoliko atoma.
ALD procesi obično koriste zagrijanemolekule u plinskoj fazi koje isparavaju iz čvrstog ili tekućeg oblika - slično poput unutarnjih ovlaživača zraka koji koriste toplinu za isparavanje vode. Međutim, u ovom su procesu neki kemijski elementi nestabilni i mogu se razgraditi prije nego što započne tlak pare.
Znanstvenici stvaraju najtiše poluvodičke kvantne bitove
“Ultrazvučnu raspršivanje razvio je našistraživačka skupina, omogućuje vam dobivanje prekursora s niskim tlakom pare, budući da je došlo do isparavanja zbog ultrazvučnih vibracija modula. Kao i kod ovlaživača zraka za kućanstvo, ultrazvučno raspršivanje stvara maglicu zasićene pare i mikro kapljica. Kapljice mikronske veličine kontinuirano se isparavaju i nanose na površinu materijala ”, primijetili su istraživači.
Ovaj postupak koristi ultrazvuktransformator smješten u tekući kemijski prekursor. Jednom pokrenut, uređaj vibrira brzinom od nekoliko stotina puta u sekundi i stvara maglicu od materijala. Male kapljice tekućine u magli brzo isparavaju u plinskom razvodniku pod vakuumom i nježnom toplotnom obradom, ostavljajući za sobom ujednačeni sloj nanesenog materijala.
Pročitajte i
Završila je godišnja misija na Arktiku i podaci su razočaravajući. Što čeka čovječanstvo?
Znanstvenici su otkrili zašto su djeca najopasniji nositelji COVID-19
Gnijezdo azijskih stršljenova ubojica pronađeno i uništeno u SAD-u