앨라배마 대학 연구진이 원자의 얇은 층을 증착하는 새로운 방법을 제시했다.
“ALD는 3 차원 얇은특히 중앙 처리 장치, 메모리 및 하드 드라이브와 같은 요소와 같은 마이크로 전자 제품의 생산에 중요한 역할을하는 필름이 있습니다.”라고 과학자들은 지적합니다. 각 ALD 사이클은 여러 원자 깊이의 레이어를 적용합니다.
ALD 공정은 일반적으로 가열고체 또는 액체 형태에서 증발하는 기체상의 분자-열을 사용하여 물을 증발시키는 실내 가습기와 매우 유사합니다. 그러나이 과정에서 일부 화학 원소는 불안정하고 증기압이 시작되기 전에 분해 될 수 있습니다.
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“우리가 개발 한 초음파 원자화연구팀은 모듈의 초음파 진동으로 인해 증발이 일어나기 때문에 증기압이 낮은 전구체를 얻을 수 있습니다. 가정용 가습기와 마찬가지로 초음파 분무는 포화 증기와 미세한 물방울을 만듭니다. 미크론 크기의 물방울이 지속적으로 증발하여 물질의 표면에 적용됩니다.
이 과정은 초음파를 사용합니다액체 화학 전구체에 배치 된 변압기. 일단 발사되면 장치는 초당 수백 번의 속도로 진동하고 재료의 안개를 생성합니다. 안개 속의 작은 액체 방울은 진공과 부드러운 열처리를 통해 가스 매니 폴드에서 빠르게 증발하여 도포 된 재료의 균일 한 층을 남깁니다.
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