Onderzoekers van de Universiteit van Alabama hebben een nieuwe methode gepresenteerd om dunne lagen atomen af te zetten
“ALD is een methode om driedimensionaal dun aan te brengenfilms, die een belangrijke rol spelen bij de productie van micro-elektronica, met name elementen als centrale verwerkingseenheden, geheugen en harde schijven ”, merken de wetenschappers op. Elke ALD-cyclus brengt een laag aan van meerdere atomen diep.
ALD-processen gebruiken meestal verwarmdmoleculen in de gasfase die verdampen uit vaste of vloeibare vorm - net als kamerbevochtigers, die warmte gebruiken om water te verdampen. In dit proces zijn sommige chemische elementen echter onstabiel en kunnen ze ontleden voordat de dampspanning begint.
Wetenschappers creëren de stilste halfgeleider-kwantumbits
“Ultrasone verneveling ontwikkeld door onsonderzoeksgroep, stelt u in staat precursors te krijgen met een lage dampspanning, aangezien verdamping optrad als gevolg van de ultrasone trillingen van de module. Net als bij een huishoudelijke luchtbevochtiger, creëert ultrasone verneveling een nevel van verzadigde stoom en microdruppeltjes. Druppeltjes van microngrootte worden continu verdampt en op het oppervlak van het materiaal aangebracht ”, merkten de onderzoekers op.
Dit proces maakt gebruik van ultrasooneen transformator geplaatst in een vloeibare chemische precursor. Eenmaal gelanceerd, trilt het apparaat met een snelheid van honderden keren per seconde en creëert het een nevel van materiaal. Kleine druppeltjes vloeistof in de mist verdampen snel in het gasverdeelstuk onder vacuüm en zachte warmtebehandeling, waardoor een gelijkmatige laag aangebracht materiaal achterblijft.
Lees ook
De jaarlijkse missie in het noordpoolgebied is afgelopen en de gegevens zijn teleurstellend. Wat staat de mensheid te wachten?
Wetenschappers hebben ontdekt waarom kinderen de gevaarlijkste dragers van COVID-19 zijn
Nest van Aziatische moordende horzels gevonden en vernietigd in de VS.