Forskere ved University of Alabama har introdusert en ny måte å deponere tynne lag med atomer som
“ALD er en metode for å påføre tredimensjonalt tyntfilmer, som spiller en viktig rolle i produksjonen av mikroelektronikk, spesielt elementer som sentrale prosesseringsenheter, minne og harddisker, ”forskerne bemerker. Hver ALD-syklus påfører et lag flere atomer dypt.
ALD-prosesser bruker vanligvis oppvarmetmolekyler i gassfasen som fordamper fra fast eller flytende form - omtrent som luftfukter innendørs, som bruker varme til å fordampe vann. Imidlertid er noen kjemiske elementer ustabile i denne prosessen og kan spaltes før damptrykket begynner.
Forskere lager de roligste halvlederkvantebitene
"Ultralyd forstøvning utviklet av vårforskergruppe, lar deg skaffe forløpere med lavt damptrykk, siden fordampning skjedde på grunn av ultralydvibrasjon av modulen. Som med en luftfukter til husholdningen, skaper ultralydforstøvning en tåke av mettet damp og mikrodråper. Dråper med mikronstørrelse fordampes kontinuerlig og påføres overflaten av materialet, bemerket forskerne.
Denne prosessen bruker ultralyden transformator plassert i en flytende kjemisk forløper. Når enheten er lansert, vibrerer den med en hastighet på flere hundre ganger i sekundet og skaper en tåke av materiale. Små dråper væske i tåken fordamper raskt i gassfordeleren under vakuum og mild varmebehandling, og etterlater et jevnt lag påført materiale.
Les også
Det årlige oppdraget i Arktis er avsluttet, og dataene er skuffende. Hva venter menneskeheten?
Forskere har funnet ut hvorfor barn er de farligste bærerne av COVID-19
Reir av asiatiske mordhorneter funnet og ødelagt i USA