Naukowcy z Uniwersytetu w Alabamie zaprezentowali nową metodę osadzania cienkich warstw atomów w postaci tzw
„ALD to metoda nakładania cienkich warstw trójwymiarowychfilmy, które odgrywają ważną rolę w produkcji mikroelektroniki, aw szczególności takie elementy, jak jednostki centralne, pamięć i dyski twarde ”- zauważają naukowcy. Każdy cykl ALD nakłada warstwę o głębokości kilku atomów.
Procesy ALD zazwyczaj wykorzystują podgrzewaniecząsteczki w fazie gazowej, które wyparowują z postaci stałej lub ciekłej - podobnie jak w nawilżaczach wewnętrznych, które wykorzystują ciepło do odparowania wody. Jednak w tym procesie niektóre pierwiastki chemiczne są niestabilne i mogą się rozkładać, zanim zacznie się prężność pary.
Naukowcy tworzą najcichsze półprzewodnikowe bity kwantowe
„Rozpylanie ultradźwiękowe opracowane przez naszegogrupa badawcza, pozwala na uzyskanie prekursorów o niskiej prężności par, gdyż parowanie nastąpiło na skutek drgań ultradźwiękowych modułu. Podobnie jak w przypadku nawilżacza domowego, atomizacja ultradźwiękowa tworzy mgiełkę nasyconej pary i mikrokropelek. Kropelki wielkości mikronów są w sposób ciągły odparowywane i nakładane na powierzchnię materiału ”- zauważyli naukowcy.
Ten proces wykorzystuje ultradźwiękitransformator umieszczony w ciekłym prekursorze chemicznym. Po uruchomieniu urządzenie wibruje kilkaset razy na sekundę i tworzy mgłę materiału. Drobne kropelki cieczy we mgle szybko odparowują w kolektorze gazowym pod próżnią i delikatną obróbką cieplną, pozostawiając równomierną warstwę nałożonego materiału.
Czytaj także
Coroczna misja w Arktyce dobiegła końca, a dane są rozczarowujące. Co czeka ludzkość?
Naukowcy odkryli, dlaczego dzieci są najbardziej niebezpiecznymi nosicielami COVID-19
Gniazdo szerszeni azjatyckich zabójców znalezione i zniszczone w USA